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中心摩方nanoArch S130 微纳3D打印系统正式运行

发布时间:2019-11-10

工程与材料科学实验中心新购(gou)置的摩方nanoArch S130微纳3D打印系(xi)统已于近(jin)期安装完(wan)毕。该系(xi)统可(ke)以(yi)实现(xian)高精度(du)大(da)幅面微尺度(du)3D打印,它采用面投影微(wei)立体(ti)光刻技术使用(yong)高(gao)精密紫外光刻投(tou)影系统(tong),将需打(da)印(yin)图案(an)投(tou)影到树脂槽(cao)液面,在液面固(gu)化树脂并快(kuai)速微(wei)立体(ti)成(cheng)(cheng)型(xing),从数字模(mo)型(xing)直(zhi)接加工三维复杂的模(mo)型(xing)和样(yang)件,完成(cheng)(cheng)样(yang)品的制作。该技(ji)(ji)术(shu)具备成(cheng)(cheng)型(xing)效率高(gao)、打(da)印(yin)精度(du)高(gao)等突出优势(shi),被认为是目前(qian)最有前(qian)景的微(wei)纳加工技(ji)(ji)术(shu)之一。

 

nanoArch S130是科研级3D打印(yin)系统(tong),拥有2μm的超(chao)高打印精度和5μm的(de)超低(di)打(da)印(yin)层(ceng)厚,可(ke)以(yi)兼顾微尺度和宏观(guan)样件(jian)的(de)打(da)印(yin),从而实现超高精(jing)度大(da)幅面的(de)样件(jian)制(zhi)作,具(ju)体性能(neng)指标如(ru)下(xia):


光源

UV LED405nm

打(da)印材料 

光敏树脂

光学精度

2μm

打(da)印(yin)层厚

5~20μm

打(da)印(yin)样品(pin)尺寸

单投影模式:3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)

拼接模式:38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)

重(zhong)复阵列模(mo)式:50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)

打印(yin)文(wen)件(jian)格式

STL

 

该系统目前已经基本调试(shi)完(wan)毕,各项指标符合(he)要求(qiu),现已投入运行,有打印需(xu)求(qiu)的老师和同学请联系顾老师,电(dian)话:0551-63606424邮件yggu@jualbelidormabekas.com


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